Product introduction
플라즈마 증착 장비
플라즈마를 이용하여 물체의 표면에 얇은 박막을 형성하는 장비
- 공정속도가 빠르며 저온에서 증착이 가능해 대상물의 손상이 없음
- 나노코팅, 바이오소재, 광학응용분야, 기계제품 등 다양한 적용 가능
CVD 장비
화합물을 반응시켜 박막을 형성시키는 박막 증착 장비
- 기체나 액체상태의 전구체를 이용하여 화학반응을 통한 반응 생성물을 기판의 표면에 증착 시키는 공정기술
- 반도체, 디스플레이 등 전자 산업 분야에 사용되며, 고정밀 박막제조 공정에 필요한 기술
- 주로 SiO2, Si3N4, TiN, Al2O3 박막 등의 산화물, 질화물 및 금속 박막 등을 생성 하는데 사용
ALE/ALD 장비
원자 수준의 두께로 박막을 증착 및 식각하는 원자층 공정 장비
- 반복적인 공정을 통하여 원하는 만큼의 두께를 원자층 단위로 수행하는 기술
- 원자층 수준으로 구조물을 제작할 수 있어서, 반도체 및 디스플레이 분야에서 높은 정밀도를 요구하는 레이어 적용에 사용
- 오스 주식회사의 공정 기술 및 독자 설비 구성을 통한 2nm 이하 디바이스 대응이 가능한 고정밀 원자층 식각 기술 적용
캐니스터쿨러
캐니스터 내부 전구체(Precursor)를 냉각하기 위한
직접냉각(전도) 장치
- 클린룸에서 사용할 수 있는 저소음, 저진동, 저결로 시스템
- 오스 주식회사 자체 기술 개발-성능 및 외형 커스텀 가능
- 캐니스터 충진과 운송이 용이한 컴팩트한 구조
- 전구체(Precursor)의 소비량을 획기적으로 감소시켜 경제성 확보
- 균일한 냉각 온도제어로 동일한 프리커서 공급량 제어
- ALE, ALD, MOCVD용 고휘발 프리커서 대응